第429章 一点小安排 (第3/5页)

以起到震慑效果……

    商量妥当之后，温良谈到了下一个事情：“第二个是关于星空半导体方面的发展情况。”

    “我的考虑是，就算原计划中那台覆盖28nm工艺制程的光刻机的进口没被卡住，也可以适当在舆论层面造势，一方面可以看看海外市场的实际态度，另一方面短期内不能让棱镜在舆论层降温。”

    “明白了。”李泽应了声，“把棱镜热度持续到下月下旬发布会召开的时候，能减少下一代新品在国际市场的营销难度。”

    “至于先进制程光刻机，哪怕我们不需要，华虹、中芯国际也需要，根据目前的研究进度，短时间内先进制程光刻机没办法国产替代，而且光刻机只是光刻生产其中一个环节，调整难度大。”

    唐普赞同道：“这倒是。”

    “按照常理，西方欧美地区习惯对国内在高精尖科技领域形成领先两三代的优势，一旦国内突破一代，立马会开放更先进一代甚至两代的产品销售；

    按照行业标准，45~40nm下一代是32~28nm，32~28nm下一代是22~20nm，如果西方保持这种常理，我们把场面弄好，他们可能直接开放支持20nm工艺制程的光刻机，这样从各方面都会削弱国产发展。”

    然后陈嘉欣提出看法：“我觉得可以安排即将在京成立的通讯业务子公司参与配合造势。”

    几人一商量，大方向就定了下来。

    大家说得都有道理。

    所谓瓦森纳之类的管束协定，它要生效的前提是产品有代差，为了保证这一点，西方是步步扩大优势。

    抛开那些过去了的造不如买操作不谈，目前在各行业尤其是半导体领域领先程度是很吓人的。

    实际上国产可商用的光刻机连90nm都没有，甚至更夸张一点说，130nm包括180nm都是半空白状态。

    不过现在星空半导体是直接要把实验室级的45nm产品用到生产线上，从实际角度上，这就算是商用了。

    所以，常理上，西方的确会至少放开32~28nm的产品。

    这里面涉及到两个大方面的事情，一是放开后会打击国产厂商的研发积极度，因为产品会滞销，没人乐意使用落后产品。

    二是一条晶圆生产线的建设或者产线升级，涉及到的类目众多，时间周期不短，不考虑将来EUV那个吓人的1年起步周期，DUV也是需要好几个月上年的时间，一旦选定产品，至少未来三年内同级别产品销路会锐减。

    两方面的因素影响下，都不谈什么经验影响下的产品使用体验差距等等，正常商业公司无论国营民营都会直